一,絡(luò)合物的配位理論和添加劑的表面吸附理論在電鍍技術(shù)中的應(yīng)用
　　電鍍藥水中不是有了金屬離子，一通電就能在工件上析出合格的金屬鍍層的。而是要使陰極在一定的極化前提下，才能析出合格的鍍層。
　　那么什么叫陰極的極化呢？金屬離子在原始的藥水中（沒(méi)有絡(luò)合劑和添加劑的藥水）有一個(gè)析出電位，當(dāng)陰極上加上這個(gè)析出電位值時(shí)，金屬離子就接受電子還原析出金屬鍍層。但是析出的金屬是沒(méi)有規(guī)律的晶格，是松散的鍍層。通過(guò)加入絡(luò)合劑或添加劑，會(huì)使金屬子還原析出鍍層的電位向負(fù)方向移動(dòng)，這種現(xiàn)象稱之為陰極的極化。例如：原來(lái)析出金屬鍍層的電位為-1.2伏，加入了絡(luò)合劑或添加劑以后使析出金屬鍍層的電位為-1.8伏。這說(shuō)明陰極極化了，其極化的值為-（1.8-1.2）=-0.6伏。陰極極化了，使析出金屬鍍層相對(duì)難題了，需要消耗比原來(lái)較高的電能。在相對(duì)比較高的電場(chǎng)能下進(jìn)行電析，也就是在電析時(shí)克服了一些阻力?？朔穗娢龅碾y題，析出金屬（金屬離子得到電子還原的過(guò)程）的過(guò)程不那么輕易了。這種阻力，這種陰極極化，給離子還原后的排列成整潔的晶格創(chuàng)造了必要的前提。使鍍層變得細(xì)膩致密，而不是松散。我們可以調(diào)整絡(luò)合劑或添加劑的量，使陰極得到合適的極化值，直至鍍得合格的鍍層。
　　二,簡(jiǎn)述絡(luò)合劑的配位理論
　　金屬離子在無(wú)絡(luò)合劑的前提下，在溶液中是很自由的，加入絡(luò)合劑后，絡(luò)合物能把中央金屬離子以配位的方式束縛起來(lái)，使金屬離子的放電行為變得不自由，增加了放電的難題，甚至改變了離子的電荷性質(zhì)，由正離子轉(zhuǎn)為負(fù)離子。
　　例如：兩個(gè)氰根“”與銀離子“”絡(luò)合后，由正離子轉(zhuǎn)為負(fù)離子，使它靠近陰極去放電（接受電子）變得比較難題。
　　絡(luò)合物對(duì)中央金屬離子的配位絡(luò)合作用，降低了金屬離子的有效濃度，控制了金屬離子的活度，增加了陰極的極化，為鍍層晶格的細(xì)化創(chuàng)造了前提，也就是說(shuō)絡(luò)合配位作用控制了金屬離子的電化學(xué)行為，控制了反應(yīng)速度和電結(jié)晶過(guò)程。
　　三,簡(jiǎn)述添加劑的表面吸附理論
　　加入鍍液的添加劑、表面活性劑一般是有機(jī)物。有機(jī)物有兩個(gè)特性：（1）具有電阻（2）在工件表面有較大的吸附力。金屬離子要到工件表面（陰極）去放電（接受電子還原），受到吸附在工件表面有機(jī)薄膜的阻擋（添加劑的阻擋）。原本可以還原析出的前提，由于有了有機(jī)膜的阻擋而不能還原。假如要使其還原（接受陰極的電子），就得增加陰極的電位，使陰極電位變得更負(fù)，也就是說(shuō)有了添加劑的吸附作用，增加了陰極極化。假如我們把吸附在工件表面的有機(jī)膜當(dāng)作成千上萬(wàn)只電容器（微觀電容），金屬離子要在陰極上放電（接受電子還原），就得沖破（擊穿）這些微觀電容器，要擊穿電容器，必需增加電場(chǎng)能，必需使陰極電位變得更負(fù)，也就是說(shuō)析出電位向負(fù)方向移動(dòng)。上面說(shuō)過(guò)，析出電位向負(fù)方向移動(dòng)的現(xiàn)象，就是陰極極化了。
　　如上所言，通過(guò)絡(luò)合物配位的方法和加入添加劑的方法，固然方法不同，理論也不同，但都能達(dá)到陰極極化的目的。既然用兩種不同的理論和方法都能增加陰極極化，很天然的，我們常常把二者結(jié)合起來(lái)同時(shí)作用于某種鍍液，使起到協(xié)同作用，增加陰極極化。所以常規(guī)的鍍液有如下幾種材料組成：
　　1,主鹽。含有被鍍金屬的鹽，提供金屬離子。
　　2,絡(luò)合劑。用于與金屬離子絡(luò)合配位，進(jìn)步陰極極化。同時(shí)增加藥水導(dǎo)電能力。
　　3,添加劑（包括光亮劑）。吸附在工件表面進(jìn)步陰極極化。有增加藥水電阻的效應(yīng)。
　　4,潤(rùn)濕劑。使工件表面與鍍液親潤(rùn)（它常存在于添加劑中）。
　　5,抗氧化劑。防止變價(jià)金屬離子氧化（它常存在于添加劑中）。
　　6,晶格細(xì)化劑。它可使鍍層晶格細(xì)膩。
　　電鍍工程重要的技術(shù)之一就是控制絡(luò)合劑和添加劑的濃度。假如二者含量過(guò)多，陰極極化過(guò)大，會(huì)降低陰極電流效率，降低電析速度，增加析氫量，造成嚴(yán)峻的針孔鍍層。
　　四,微電子電鍍技術(shù)的特點(diǎn)
　　1,微電子電鍍的目的是功能電鍍，為了進(jìn)步可焊性，所以電鍍的是可焊性金屬鍍層。如金、銀、錫、錫鉛合金、錫銅銀合金、錫鈰合金、錫鉍合金等鍍層。
　　2,微電子器件一般是塑料封裝體，為了減少電鍍藥水對(duì)微電子器件電性的影響（酸、堿的側(cè)蝕作用）。電鍍藥水宜采用機(jī)能比較柔和的烷基磺酸體系，而盡量少用強(qiáng)酸體系，如硫酸和氟硼酸等。
　　3,跟著微電子技術(shù)的發(fā)展，微電子管的塑封體越來(lái)越小，微電子管電極的引線越來(lái)越細(xì)，塑封體小至芝麻粒大，電極引線細(xì)至0.3mm左右，引線與引線之間的間隔也不外0.3mm。在一個(gè)微電子框架上會(huì)萃著上千個(gè)管子，為了避免線間短路，控制鍍層厚度和厚度精度是相稱重要的技術(shù)指標(biāo)。對(duì)鍍層的要求不宜太厚，尤其是鍍層厚度誤差精度的控制上嚴(yán)于五金電鍍。要求控制±2微米。
　　4,從微電子框架的基材特性說(shuō)，鍍前處理尤為重要。在用基材一般是銅基和鐵鎳合金（Ni42Fe）。Ni42Fe在焊片（D/B）、焊線（W/B）和塑封后固化的工序中極易氧化鈍態(tài)。
　　所以在電鍍過(guò)程中，去氧化工序成了工藝成敗的核心題目。
　　五,電鍍過(guò)程三部曲和電鍍功能工序
　　1,電鍍前處理
　　電鍍前處理的目的是為了使工件表面徹底干凈，為電鍍作預(yù)備。徹底干凈是指工件表面無(wú)溢料（殘膠、毛刺）、無(wú)油污染、無(wú)氧化物、表面是活化的。表面活化是指金屬表面的晶格暴露得很新鮮。以上的處理都是為了進(jìn)步鍍層與基材的結(jié)協(xié)力。
　　2,電鍍
　　現(xiàn)在微電子器件主要是電鍍錫，以前主要是鍍鉛錫。由于鉛錫鍍層特別好焊接，但鉛元素有毒而停用。假如鍍的是錫鉛合金，則對(duì)電鍍層有五個(gè)基本技術(shù)指標(biāo)。
　　2.1鍍層外觀：必需是呈銀白色、灰白色，光彩平均一致，無(wú)水跡，框架無(wú)變形，塑封體烏亮，塑封體完整無(wú)缺角、無(wú)塌棱，無(wú)氣孔等缺陷。
　　2.2厚度控制
　　錫鉛合金鍍層 10±2微米
　　純錫鍍層 12±2微米
　　厚度中央值的大小和厚度誤差的合用性，由塑封體大小和電極導(dǎo)線（管子引出線）規(guī)格所決定。一般說(shuō)塑封體越小，引線越細(xì)，則鍍層厚度和厚度誤差精度的控制越嚴(yán)要求。
　　2.3錫鉛合金金比擬例控制
　　對(duì)9010SnPb（90%錫10%鉛）合金鍍層，對(duì)鉛含量控制在10%，誤差±3.5%。
　　2.4鍍層結(jié)協(xié)力。通過(guò)各種結(jié)協(xié)力試驗(yàn)合格。
　　2.5可焊性。通過(guò)爬錫試驗(yàn)合格。
　　3,鍍后處理
　　電鍍后處理的目的是使產(chǎn)品清潔和干燥。用稀堿中和法除去鍍層中的殘酸，同時(shí)除去吸附在鍍層表面的添加劑有機(jī)薄膜。由于錫是兩性金屬（溶于堿也溶于酸），故通過(guò)用堿中和也起到化學(xué)拋光作用。通過(guò)清洗（或加超聲波清洗）和烘烤，得到清潔和干燥的電鍍產(chǎn)品。
　　由以上電鍍過(guò)程三部曲的分析，電鍍工序中去溢料（殘膠、毛刺）、除油、去氧化、活化、電鍍、中和、漂洗、干燥成為微電子電鍍常規(guī)的八個(gè)功能工序。
　　六,除塑封體溢料工藝流程
　　目前常用的有2種方法：
　　1、
　　2、電解松散毛刺后用水刀去毛刺（溢料）。
　　七,電鍍工藝流程
　　1,掛鍍自動(dòng)線
　　掛架集中在線外設(shè)立的退鍍線上退鍍。
　　2,高速自動(dòng)線
　　八,電鍍線的技術(shù)治理
　　1,掛鍍自動(dòng)線（手工線）的技術(shù)治理
　　1.1電鍍藥水的正向控制：
　　1.2用赫爾槽試驗(yàn)，對(duì)赫爾樣片的分析，判定添加劑或光亮劑的量，及時(shí)調(diào)整添加劑或光亮劑。也可用表面張力環(huán)檢查添加劑量。
　　1.3用比重法或其他化學(xué)分析法，控制除油槽、去氧化槽、活化槽、中和槽的濃度。
　　1.4控制或檢查各槽位的溫度，使符合規(guī)范。
　　1.5控制除油槽、去氧化槽、活化槽、電鍍槽、中和槽的液位高度。這五種功能槽液位應(yīng)該一致，是同樣的高度。
　　1.6控制檢查逆流漂洗槽的水位。第一級(jí)漂洗槽的液位必需比主要功能槽高（掛鍍線水位落差在20mm左右，滾鍍線水位落差40-50mm），以保證掛架和滾斗全部清洗到。
　　假如掛鍍槽藥水離槽口120mm（除油、去氧化、活化、中和槽液位也是離槽口120mm），則第一級(jí)漂洗槽水位離槽口為100mm，第二級(jí)漂洗水位為80mm,第三級(jí)為60mm。
　　1.7用絮凝劑處理鍍液中的高價(jià)錫。在不停產(chǎn)的情況下，每隔1-2天，吸取鍍液100-200升，進(jìn)行絮凝處理，澄清鍍液。掏出鍍液后用新配液增補(bǔ)，掏出的鍍液通過(guò)先模擬絮凝試驗(yàn)后進(jìn)行絮凝處理。清液周轉(zhuǎn)時(shí)待用。
　　模擬絮凝試驗(yàn)方法：取一升混濁鍍液，用移液管吸取10ml絮凝劑，在不斷攪拌鍍液的前提下，慢慢滴加絮凝劑。加加停停看燒杯上層鍍液5mm左右深度有否澄清效果。若休止30-60秒鐘，上層有顯著澄清效果，則表示已到等當(dāng)量。記下加入的絮凝劑量，作為絮凝劑耗量的參數(shù)（ml/l）。用這參數(shù)作為批量混濁鍍液絮凝時(shí)的參考量。由于當(dāng)絮凝劑加量不足時(shí)，藥水澄清效果不佳。但若加入過(guò)量，會(huì)把二價(jià)錫也絮凝損失掉。
　　2,高速線的技術(shù)治理
　　2.1做好藥水的正向控制。
　　2.2做好赫爾試驗(yàn)和赫爾片分析，調(diào)整好添加劑量。
　　2.3用比重法和化學(xué)分析法調(diào)整好，除油槽、去氧化槽、活化槽、中和槽的工藝規(guī)范。
　　2.4稽核各槽的溫度。
　　2.5稽核各泵的流量，控制好各槽的液位。
　　2.6調(diào)整子槽高度，使與加工件的規(guī)格配合。
　　2.7調(diào)整好上料臺(tái)的高度，使與加工件的規(guī)格配合。
　　2.8調(diào)整好電流參數(shù)使與加工件的規(guī)格配合。
　　2.9檢查各泵的流量、壓力，有否噴頭堵塞現(xiàn)象。
　　2.10稽核鋼帶的運(yùn)行速度是否符合要求。
　　2.11有必要時(shí)對(duì)藥水進(jìn)行絮凝澄清處理。
　　九,出產(chǎn)線平時(shí)維護(hù)要點(diǎn)
　　1,按照（七）電鍍線技術(shù)治理方法進(jìn)行各項(xiàng)參數(shù)的稽核和調(diào)整，澄清鍍液。
　　2,每班對(duì)電鍍線電接觸部位進(jìn)行清理，保證電接觸良好。
　　3,每4-5天（三班制出產(chǎn)），對(duì)出產(chǎn)線進(jìn)行大清理。尤其是電鍍槽，要進(jìn)行洗陽(yáng)極鈦籃、洗錫球、擦極棒、洗陽(yáng)極PP袋、增補(bǔ)錫球等工作。
　　4,調(diào)整好陰陽(yáng)極的面積投影，均衡電力線分布。
　　5,對(duì)掛架進(jìn)行整治，把分歧格的掛架剔除掉。
　　6,對(duì)高速線上鋼帶的退鍍槽進(jìn)行清理。清除退鍍槽中的錫泥，清理陰極板上的錫鍍層。
　　7,高速線鋼帶上的夾子損壞的要及時(shí)更換。
　　8,當(dāng)鋼帶老化影響正常運(yùn)載工件時(shí)要及時(shí)更換新的鋼帶。
　　9,要每周檢查鋼帶上電刷是否磨損需要更新，同時(shí)清理電刷上的污物。
　　10,每周對(duì)高速線上的子槽進(jìn)行清理。
　　11,每班及半途檢查噴頭是否堵塞，避免交叉污染。

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